ILPall GLFPF3000VMF4Si tratta di un gruppo di filtri per gas in linea ad altissima purezza, progettato specificamente per la filtrazione al punto di utilizzo nelle linee di processo dei gas per semiconduttori e microelettronica. È dotato di un alloggiamento in acciaio inossidabile 316L elettrolucidato con una finitura superficiale interna di qualità superiore per prevenire il distacco di particelle. Al suo interno, ospita un elemento filtrante interamente in fluoropolimero che offre un'eccezionale compatibilità chimica con gas speciali inerti, tossici e altamente corrosivi.

u Valori nominali elettrici: 0 A / 0 V

u Pressione massima di esercizio: 20,7 MPa a 121 °C

u Temperatura massima di esercizio: 121 °C (250 °F)

u Profili di degassamento:

u Attacco: 1/4" VCR (guarnizione)

❖ Fabbricazione di wafer di semiconduttori: Installato direttamente nei punti di utilizzo (POU) per rimuovere la contaminazione da particolato sub-micronico proveniente dai gas critici utilizzati nei processi di deposizione, incisione e fotolitografia.

❖ Armadi per gas ad altissima purezza (UHP): Integrati nei collettori di distribuzione del gas sfuso, nei pannelli di spurgo e negli armadi per gas destinati alla gestione di gas altamente reattivi, corrosivi o tossici.

❖ Isolamento della strumentazione in camera bianca: protezione dei regolatori di flusso di massa (MFC) ad alta precisione, dei regolatori di pressione e degli strumenti di analisi olfattiva dai detriti particellari provenienti da monte.

FS-TSDO-04UNI

F2DO1602

NFBU200-S05 S2

9907-018

FS-IOBUS-CPIO

F8650X

NFCCC01

5438-667

FC-QPP-0001 V1.3

HIMAX X-CPU01

AAI135-H00 S1

5462-916

FC-USI-0001 V1.3

F60CPU03

CP401-10 S1

5464-211

FS-TSGAS-1624

F3 AIO 84 01

NFBU200-S05 S2

5464-334

FS-IOBUS-CPIO

Z7126

NFCP100-S05 S3

5501-380

51305072-600

HIMatrix F35 011 30

PW482-51 S2

8400-016

51196041-100

HIMatrix F35 010 30

ADV551-P50 S2

5437-672